[发明专利]具有排列的凹槽来提高抛光介质利用的化学机械抛光垫无效

专利信息
申请号: 200510131657.2 申请日: 2005-12-13
公开(公告)号: CN1790625A 公开(公告)日: 2006-06-21
发明(设计)人: G·P·马尔道尼 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;B24D17/00;B24B39/06
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈文青
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种抛光垫(104,304,404,504),具有环形抛光轨迹(152,312,412,512),它用来抛光晶片(120,316,416,516)。多个凹槽(112,320,420,520)排列在晶片轨迹内,使得它们在相对于抛光垫的旋转特性的径向和圆周上相互隔开,并且相对于抛光垫是至少部分非圆周的。
搜索关键词: 具有 排列 凹槽 提高 抛光 介质 利用 化学 机械抛光
【主权项】:
1.一种抛光垫,包括:a)抛光层,构造成在抛光介质存在条件下,能抛光至少一个磁性,光学或半导体基片的表面,该抛光层包括旋转轴、外缘和与该旋转轴同心的环状抛光轨迹;b)形成在抛光层中的大量凹槽,包括完全位于环形抛光轨迹中的第一组凹槽,第一组的每个凹槽:i)与第一组中其它凹槽在相对于旋转轴的径向隔开;ii)与第一组中其它凹槽在相对于抛光垫的圆周方向隔开;iii)至少在相对于抛光垫非圆周取向的一部分有一纵轴,形成抛光介质的不连续流动,此时凸起区域中断了至外缘的流动。
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