[发明专利]离子源设备和方法有效

专利信息
申请号: 200510131760.7 申请日: 2005-12-16
公开(公告)号: CN1816243A 公开(公告)日: 2006-08-09
发明(设计)人: J·O·诺尔林;J·-O·贝里斯特伦 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H05H13/00 分类号: H05H13/00;H05H1/24;H05G2/00;G21G1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 廖凌玲
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种可改进回旋加速器中的离子源寿命和性能的方法和设备。根据一个实施例,本发明包括用于维持其中的等离子体放电的离子源管道(300)。所述离子源管道(300)包括沿所述离子源管道(300)侧面的狭缝开口(310),其中所述狭缝开口(310)具有小于0.29毫米的宽度。所述离子源管道(300)还包括所述离子源管道(300)端部中的端部开口(314)。所述端部开口(314)小于所述离子源管道(300)的内径且自所述离子源管道(300)的中心轴线(316)朝向所述狭缝开口(310)移动0-1.5毫米。所述等离子体柱相对于所述狭缝开口(310)移动0.2至0.5毫米。所述离子源管道(300)包括适于所述等离子体放电的空腔(312)。本发明还涉及一种用于制造离子源管道(300)的方法。
搜索关键词: 离子源 设备 方法
【主权项】:
1、一种用于维持其中的等离子体放电的离子源管道(300),所述离子源管道(300)包括:沿所述离子源管道(300)侧面的狭缝开口(310),其中所述狭缝开口(310)具有小于0.29毫米的宽度;所述离子源管道(300)端部中的端部开口(314),其中所述端部开口(314)小于所述离子源管道的内径且自所述离子源管道(300)的中心轴线(316)朝向所述狭缝开口(310)移动0-1.5毫米;和适于所述等离子体放电的空腔(312)。
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