[发明专利]含台阶差图案形成方法和薄膜晶体管及液晶显示器制造方法有效
| 申请号： | 200510132028.1 | 申请日： | 2005-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN1790162A | 公开（公告）日： | 2006-06-21 |
| 发明（设计）人： | 吴泰英 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;B41J2/01;H01L29/786;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 含台阶差图案形成方法和薄膜晶体管及液晶显示器制造方法。一种形成具有台阶差的图案的方法和使用该形成图案的方法来制造薄膜晶体管及LCD器件的方法。形成具有台阶差的图案的方法包括：在第一印刷辊中形成具有预定形状的第一图案；在基板上旋转第一印刷辊以将第一图案转印到基板上；在第二印刷辊上形成具有预定形状的第二图案；以及在其上转印有第一图案的基板上旋转第二印刷辊以将第二图案转印到所述基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 台阶 图案 形成 方法 薄膜晶体管 液晶显示器 制造 | ||
【主权项】：
1、一种形成具有台阶差的图案的方法，包括下列步骤：a)在第一印刷辊上形成具有预定形状的第一图案；b)在基板上旋转第一印刷辊，以将第一图案转印到基板上；c)在第二印刷辊上形成具有预定形状的第二图案；以及d)在基板上旋转第二印刷辊，以将第二图案转印到基板上。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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