[发明专利]光阻清洗剂有效
| 申请号： | 200510132392.8 | 申请日： | 2005-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN1987663A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 郭光埌;戴杏如 | 申请（专利权）人： | 新应材股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 中国台湾桃园县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明为一种包含乙酸丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)或乙酸丙二醇单甲基醚酯衍生化合物与环己酮(ANONE)或环己酮(ANONE)衍生化合物成分的光阻清洗剂；此光阻清洗剂具有下列特点：对人体具极低毒性，使用上具安全性，且无令人不愉快的气味；不会对环境造成污染，且其废液及废水容易处理；对光阻材料层具有良好的溶解度，适宜的挥发性，及优越的清洗能力及良好于不同光阻之间的兼容性；能于室温储存，成本低廉，且不需更换习用设备与生产条件，对人体具极低毒性，且其废液及废水容易处理。 | ||
| 搜索关键词： | 光阻清 洗剂 | ||
【主权项】：
1、一种光阻清洗剂，其特征在于，包含乙酸丙二醇单甲基醚酯(Propylene glycol mono-methyl ether acetate，PGMEA)与环己酮(Cyclohexanone，ANONE)及其衍生物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新应材股份有限公司，未经新应材股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510132392.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
