[发明专利]一种两维规整聚合物纳微米孔阵列模板的制备方法

摘要

本发明涉及一种两维规整聚合物纳微米孔阵列模板的制备方法，属于高分子材料技术领域。首先将成核单体与成壳单体相互混合，在混合物中加入乳化剂和水，用酸或碱调pH值，将混合液搅拌并加热，加入引发剂进行聚合反应，得到乳液；用垂直提拉法、旋镀法或溶剂蒸发法制备两维规整乳胶粒阵列模板，将乳胶粒阵列模板放置在溶剂的蒸汽环境中处理，取出干燥即得聚合物纳微米孔阵列模板。本发明的制备方法，利用乳胶粒的自组装性质得到乳胶粒两维规整阵列，并利用乳胶粒中不同组分溶解性的差异来构造孔结构，因此制孔过程简单，易于操作，而且所用的原料来源广泛。

主权项

1、一种两维规整聚合物纳微米孔阵列模板的制备方法，其特征在于该方法包括以下步骤：(1)合成乳胶粒：将成核单体与成壳单体相互混合，两者的质量比为：成核单体∶成壳单体＝1∶0.05～1，在上述混合物中加入乳化剂和水，乳化剂加入量为单体质量的0～5％，加水为单体质量的5～20倍，用酸或碱调pH值至1～12；搅拌加热至50℃～70℃左右，加入引发剂进行聚合反应，加入量为单体质量的0.1～5％，聚合温度为80～100℃，反应时间为3～12小时，得到乳液；(2)制备两维规整乳胶粒阵列模板：制备方法为垂直提拉法、旋镀法或溶剂蒸发法中的任何一种；(3)制备两维规整聚合物纳微米孔阵列模板：在0～100℃的温度下，将上述乳胶粒阵列放置在溶剂的蒸汽环境中，处理5～200min，取出干燥即得聚合物纳微米孔阵列模板。