[发明专利]监控元件和磁阻效应元件基板及监控元件的制造方法无效

专利信息
申请号: 200510134137.7 申请日: 2005-12-27
公开(公告)号: CN1831946A 公开(公告)日: 2006-09-13
发明(设计)人: 高桥亨 申请(专利权)人: 阿尔卑斯电气株式会社
主分类号: G11B5/39 分类号: G11B5/39;G11B5/187
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 黄剑锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够防止短路发生的监控元件和磁阻效应元件基板以及监控元件的制造方法。本发明的在形成由上下屏蔽层施加与膜面垂直的检测电流的磁阻效应元件的媒体对置面的研磨加工时,作为监控该磁阻效应元件的元件电阻的监控器来使用的监控元件,具备结构与磁阻效应元件的磁阻效应膜的膜结构相同的多层膜和施加与该多层膜的膜面平行的电流的电极层。电极层被形成在与下屏蔽层的层叠高度相同的位置上,除与多层膜连接的电极连接部和电极取出部以外的区域被绝缘性保护层所覆盖。
搜索关键词: 监控 元件 磁阻 效应 制造 方法
【主权项】:
1.一种监控元件,是在形成磁阻效应元件的媒体对置面的研磨加工时作为该磁阻效应元件的元件电阻监控器来使用的,所述磁阻效应元件由上下屏蔽层沿与膜面垂直的方向被施加检测电流,其特征在于,具备:具有预定电阻值的多层膜、以及与该多层膜的膜面平行地施加电流的电极层;上述电极层被形成在与上述下屏蔽层相同的层叠高度位置上,除与上述多层膜连接的电极连接部和电极取出部以外的区域被绝缘性保护层所覆盖。
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