[发明专利]负型光阻剂在审
申请号: | 200510134760.2 | 申请日: | 2005-12-21 |
公开(公告)号: | CN1987644A | 公开(公告)日: | 2007-06-27 |
发明(设计)人: | 郭光埌;戴伟仁;温世豪 | 申请(专利权)人: | 新应材股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/032 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的负型光阻剂主要是由高分子树脂(Resin)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)所组成;亦可配合加入颜料(Pigment)、添加剂(Additives),而获致一种尤适合搭配刮刀式涂布法(Slit Coating)应用在玻璃基板涂布的负型光阻剂。 | ||
搜索关键词: | 负型光阻剂 | ||
【主权项】:
1、一种光阻剂,其特征在于,是由高分子树脂(Resin)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)所组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新应材股份有限公司,未经新应材股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510134760.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:锁具及其钥匙
- 下一篇:4,4’-二硝基二苯醚的制备方法