[发明专利]负型光阻剂在审
| 申请号： | 200510134760.2 | 申请日： | 2005-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1987644A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 郭光埌;戴伟仁;温世豪 | 申请（专利权）人： | 新应材股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/032 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 中国台湾桃园县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的负型光阻剂主要是由高分子树脂(Resin)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)所组成；亦可配合加入颜料(Pigment)、添加剂(Additives)，而获致一种尤适合搭配刮刀式涂布法(Slit Coating)应用在玻璃基板涂布的负型光阻剂。 | ||
| 搜索关键词： | 负型光阻剂 | ||
【主权项】：
1、一种光阻剂，其特征在于，是由高分子树脂(Resin)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)所组成。
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