[发明专利]场发射显示器电子发射源表面活化的方法无效

专利信息
申请号: 200510135301.6 申请日: 2005-12-27
公开(公告)号: CN1992124A 公开(公告)日: 2007-07-04
发明(设计)人: 郑奎文;萧俊彦;李协恒;李裕安;蔡金龙 申请(专利权)人: 东元电机股份有限公司
主分类号: H01J9/02 分类号: H01J9/02
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦;方挺
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种场发射显示器电子发射源表面活化的方法,在未活化的阴极板制作完成后,在电子发射源层的一侧利用溶剂制作保护层,然后调制涂料,通过涂装设备将涂料雾化涂布于所述已制作保护层的阴极板上,在涂料涂覆于阴极板后,再焙烤数分钟,使贴覆层固化铸形、干燥成膜后再利用滚筒式脱膜机构进行脱膜,从而均匀脱膜以均匀活化电子发射源层表面,在脱膜后的阴极板的电子发射层内仍有部分残留溶剂,再焙烤数分钟以充分移除多余的溶剂。
搜索关键词: 发射 显示器 电子 表面 活化 方法
【主权项】:
1.一种场发射显示器电子发射源表面活化的方法,包括:a)取未活化的阴极板;b)在所述阴极板的电子发射源层一侧将溶剂涂附于电子发射源层的表面以形成保护层,并对表面进行微热处理,以移除电子发射源层非有效区域层表面的溶剂及碳纳米管层表面的小部分溶剂,仅保留电子发射源层表面及四周所形成的溶剂保护层;c)调制涂料,并将所述涂料涂布于所述阴极板上,以充分铸形于电子发射源层表面从而形成贴覆层;d)在所述溶液涂覆于所述阴极板后,再进行焙烤,使贴覆层固化铸形、干燥成膜后再移除贴覆层,以均匀活化电子发射源层表面,脱膜后的阴极板的电子发射源层内仍有残留部份的溶剂,再进行焙烤以充分移除多余的溶剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东元电机股份有限公司,未经东元电机股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510135301.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top