[发明专利]用于成像装置的卷曲校正装置有效
申请号: | 200510135635.3 | 申请日: | 2005-12-27 |
公开(公告)号: | CN1799975A | 公开(公告)日: | 2006-07-12 |
发明(设计)人: | 上原淳治;荒馆富岳 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | B65H29/52 | 分类号: | B65H29/52;B65H29/20;B65H29/70;G03G15/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种卷曲校正装置,其包括第一卷曲校正部和第二卷曲校正部。第一卷曲校正部配置在输送路径上,其中记录介质沿输送路径在向输送方向上进行输送。第一卷曲校正部校正具有第一厚度的记录介质中的卷曲。第二卷曲校正部在输送方向上配置在输送路径上第一卷曲校正部的上游侧或下游侧。第二卷曲校正部校正具有第二厚度的记录介质中的卷曲,其中第二厚度大于第一厚度。 | ||
搜索关键词: | 用于 成像 装置 卷曲 校正 | ||
【主权项】:
1.一种卷曲校正装置,其包括:第一卷曲校正部,其配置在输送路径上,其中记录介质沿所述输送路径在输送方向上进行输送,所述第一卷曲校正部校正具有第一厚度的记录介质中的卷曲;和第二卷曲校正部,其在所述输送方向上配置在所述输送路径上所述第一卷曲校正部的上游侧或下游侧,所述第二卷曲校正部校正具有第二厚度的记录介质中的卷曲,其中所述第二厚度大于所述第一厚度。
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