[发明专利]光学器件的形成方法有效

专利信息
申请号: 200510136164.8 申请日: 2005-12-22
公开(公告)号: CN1808194A 公开(公告)日: 2006-07-26
发明(设计)人: J·G·谢尔纳特;M·L·莫伊尼汉;L·W·利特尔 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138;G02B6/02;G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沙永生
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供一种形成光学器件的方法。所述方法包括:(a)在第一基片上施涂干膜,所述干膜包括:载体基片和在所述载体基片上的第一聚合物层;(b)通过包括在第一基片上涂敷液体组合物的方法在第一基片上形成第二聚合物层;和(c)使第一聚合物层和/或第二聚合物层形成图案。还提供形成具有光学功能的印刷线路板的方法。本发明在光电工业中找到具体的应用。
搜索关键词: 光学 器件 形成 方法
【主权项】:
1.一种形成光学器件的方法,包括:(a)在第一基片上施涂干膜,所述干膜包括:载体基片和在所述载体基片上的第一聚合物层;(b)通过包括在第一基片上涂敷液体组合物的方法在第一基片上形成第二聚合物层;和(c)使第一聚合物层和/或第二聚合物层形成图案。
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