[发明专利]CMOS半导体器件无效

专利信息
申请号: 200510136214.2 申请日: 2005-12-22
公开(公告)号: CN1812102A 公开(公告)日: 2006-08-02
发明(设计)人: 益冈有里;君塚直彦;今井清隆;岩本敏幸 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司;日本电气株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在使用相同的电源电压工作的区域中形成N型MOSFET(118)和P型MOSFET(120)时,使N型MOSFET(118)的栅绝缘膜(106a)的厚度比P型MOSFET(120)的栅绝缘膜(106b)的厚度厚。
搜索关键词: cmos 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,其包括:使用相同的电源电压工作的N型MOSFET和P型MOSFET;所述N型MOSFET具有第一栅绝缘膜;以及所述P型MOSFET具有第二栅绝缘膜,其中所述第一栅绝缘膜的膜厚度比所述第二栅绝缘膜的膜厚度厚。
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