[发明专利]曝光方法和装置无效

专利信息
申请号: 200510137365.X 申请日: 2005-10-10
公开(公告)号: CN1821882A 公开(公告)日: 2006-08-23
发明(设计)人: 佐佐木义晴 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种曝光方法和装置,其在对由保护层等对光具有敏感度的感光层叠层而成的印刷电路板等记录介质进行图形曝光时,维持感光层的结合性的同时,防止感光层无法除去,和感光层易于脱落的问题。其是通过曝光装置(3)在对形成于基板上的保护层上的配线图形进行曝光时,使配线区域边缘区域上照射的光的照射能量大于边缘区域之外的区域上照射的光的照射能量。
搜索关键词: 曝光 方法 装置
【主权项】:
1、一种曝光方法,通过具有所定的照射能量的光,在记录介质中的感光层上,对所定图形进行曝光,该记录介质由对从所定光源发出的光具有感光性的感光层叠层形成,其特征在于,使所述所定图形中的边缘区域的照射能量,比其它区域的照射能量大,而将该所定的图形曝光于所述感光层上。
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