[发明专利]等离子显示设备和用于该设备的单层滤光器及其制造方法无效
| 申请号： | 200510137528.4 | 申请日： | 2005-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN1801253A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 孙智勋 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | G09F9/313 | 分类号： | G09F9/313;G12B17/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨本良 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种显示设备和其单层滤光器及其制造方法。该等离子显示设备包括：前面板；EMI屏蔽膜，其包括以网格型形成的金属网格，用于屏蔽从前面板入射的EMI；和中间层，其形成在金属网格周围，用于屏蔽NIR；以及AR/硬涂层膜，其覆盖在EMI屏蔽膜的至少一个表面上，用于屏蔽从外部入射的光的反射。该PDP的单层滤光器的制造方法包括步骤：将其中导电材料以网格型形成的金属网格输入到成型单元中；将其中树脂、NIR吸收染料和颜色补偿染料混合的混合物注入成型单元；进行透明处理，使得光能够通过；将已对其进行了透明处理的该混合物以薄膜形式喷出，使该混合物硬化，并然后形成EMI屏蔽膜；以及在形成的EMI屏蔽膜上涂覆防止光反射的AR/硬涂层膜。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 显示 设备 用于 单层 滤光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子显示设备，包括：前面板；EMI屏蔽薄膜，其包括以网格型形成的金属网格，用于屏蔽从前面板入射的EMI，还包括在金属网格周围形成的中间层，用于屏蔽NIR；以及AR/硬涂层膜，其覆盖在EMI屏蔽薄膜的至少一个表面上，用于屏蔽从外部入射的光的反射。
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