[发明专利]溶剂去除装置以及溶剂去除方法

摘要

一种溶剂去除装置，具有：基台(23)，其对设置含膜材料与溶剂的液状的膜形成用材料的被膜的基板(W)进行支持；气体导入机构(3)，其将脱溶剂去除用的气体导入基板(W)的中央部；和限制机构，其按照气体从基板(W)的中央部向边缘部流动呈放射状那样，对气体的流动进行限制。通过限制机构，对气体的流动进行限制，同时从被膜中将溶剂去除。由此，本发明能提供使在工件中设置的被膜干燥成为均一的膜厚的溶剂去除装置以及溶剂去除方法。

主权项

1、一种溶剂去除装置，具有：工件支持机构，该机构支持工件，在所述工件上设置有包含膜材料和溶剂的液状的膜形成用材料的被膜；气体导入机构，其向所述工件的中央部导入脱溶剂去除用的气体；限制机构，其按照使所述气体从所述工件的中央部向边缘部流动呈放射状那样，对该气体的流动进行限制，由所述限制机构，对所述气体的流动进行限制，同时将所述溶剂从所述被膜中去除。