[发明专利]选择纯化单萜烯以除去含氧物质无效
| 申请号： | 200510138062.X | 申请日： | 2005-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN1800125A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | H·R·博文 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | C07C35/08 | 分类号： | C07C35/08;C07C29/74 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;邹雪梅 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及通过从单萜烯中分离出含氧杂质化合物制备作为成孔剂在电子器件中用于多孔二氧化硅介电膜沉积的单萜烯的方法，包括：提供包含含氧杂质化合物的纯净单萜烯；提供活化硅胶制备色谱柱；使包含含氧杂质化合物的纯净单萜烯与柱接触；含氧杂质化合物被保留在柱上；以及从柱上回收去除了含氧杂质化合物的纯净单萜烯。 | ||
| 搜索关键词： | 选择 纯化 单萜 除去 物质 | ||
【主权项】：
1、通过从单萜烯中分离出含氧杂质化合物制备在电子器件中作为成孔剂用于多孔二氧化硅介电膜沉积的单萜烯的方法，包括：提供包含含氧杂质化合物的纯净单萜烯；提供活化硅胶制备色谱柱；使包含含氧杂质化合物的纯净单萜烯与柱接触；含氧杂质化合物被保留在柱上；以及从柱上回收去除了含氧杂质化合物的纯净单萜烯。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于气体产品与化学公司，未经气体产品与化学公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510138062.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于照明和数据传输的LED系统
- 下一篇：场发射显示器
