[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 200510138200.4 | 申请日： | 2005-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1800986A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | C·－Q·桂;P·W·H·德贾格;R·－H·芒尼格施米特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括：用于提供辐射束的照射系统；包括单独可控单元阵列的用于把图案赋予辐射束截面的图案形成装置；支撑衬底的衬底台；以及包括微透镜阵列的用于把辐射束投射到衬底的目标部分的投射系统。设置用于提供补偿微透镜阵列中位置误差的影响的误差校正值的误差补偿器，并且设置灰度调制器，用于与误差校正值相关地向图案形成装置的可控单元提供驱动信号，以便通过改变图案的一些部分相对于图案的其它部分的强度来补偿微透镜阵列中位置误差的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，它包括：照射系统，它提供辐射束；图案形成装置，它将所述辐射束图案化；投射系统，它将所述辐射束投射到衬底的目标部分；误差补偿器，它提供误差校正值以便补偿所述投射系统中的误差影响；以及灰度调制器，它根据所述误差校正值将驱动信号提供给所述图案形成装置，以便通过改变所述图案辐射束的一些部分的强度来补偿所述投射系统中误差的影响。
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