[实用新型]一种改进的抛光机结构无效

专利信息
申请号: 200520001144.5 申请日: 2005-01-21
公开(公告)号: CN2772723Y 公开(公告)日: 2006-04-19
发明(设计)人: 何明钦 申请(专利权)人: 何明钦
主分类号: B24B21/00 分类号: B24B21/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型提供一种改进的抛光机结构,其是在一动力部的两侧对称的利用工作支部延设有至少一组以上的抛光调整组,该抛光调整组是由第一支片、第二支片、惰轮及限位片所组成,根据上述结构,以提供单一动力可提供复数个抛光调整组外,更可方便抛光加工作业及更换、调整抛光砂带。
搜索关键词: 一种 改进 抛光机 结构
【主权项】:
1、一种改进的抛光机结构,其是在一动力部的两侧对称的利用工作支部延设有至少一组以上的抛光调整组,其特征在于:该抛光调整组包括有:一第一支片,其一端设有一第一握持部,该第一支片另端设有一第一套接段,并在该第一套接段上设有一轴孔;一第二支片,其一端设有一第二握持部,该第二握持部的一端设有一可供调节栓套设的栓孔,该第二支片本体一侧设有一长轴,是套接于该工作支部其枢接部的枢接孔,该第二支片另端设有一第二套接段,并在该第二套接段的上、下侧各横向延设有二片体;一惰轮,其轴心延设有一短轴,以供套设于该第一支片的轴孔;一限位片,其具有一纵向段及一横向段,且该纵向段锁结于第二支片。
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