[实用新型]一种湿式、干式两用足浴装置无效
| 申请号： | 200520001291.2 | 申请日： | 2005-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN2778268Y | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | 杨金龙;马天民;席小庆;杨景;郝永林 | 申请（专利权）人： | 邯郸市勇龙世纪高技术陶瓷有限公司 |
| 主分类号： | A61H35/00 | 分类号： | A61H35/00;A61H33/00;A47K3/022 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 056000河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种湿式、干式两用足浴装置，该装置包含有外壳、介质容器、水热密封室、足浴介质、及主控制单元；其中，该介质容器和主控制单元分别设置于该外壳的内部和外部，而该水热密封室则位于介质容器的底部，与该水热密封室相连通有自动排水系统和热风系统，足浴介质置于该介质容器之内。该水热密封室内设置有加热元件和测温传感器。本实用新型采用一种具有高强度、优越滚动性、良好接触感、永不磨损的陶瓷微珠作为热浴介质，可以实现干式与湿式两种热浴方式。此外还具有自动排水功能，使用方便；节水节能；避免细菌感染；具有可长时间、全方位进行足部热浴、温烤、按摩等诸多优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 两用 装置 | ||
【主权项】：
1、一种湿式、干式两用足浴装置，其特征在于：该装置包含有外壳、介质容器、水热密封室、足浴介质、及主控制单元；其中，该介质容器和主控制单元分别设置于该外壳的内部和外部，而该水热密封室则位于介质容器的底部，与该水热密封室相连通的有自动排水系统和热风系统，足浴介质置于该介质容器之内。
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