[实用新型]一种真空灭弧室中屏蔽筒与瓷壳的新型连接构造无效
| 申请号： | 200520006379.3 | 申请日： | 2005-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN2829059Y | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 王德志 | 申请（专利权）人： | 中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 | 代理人： | 李大刚 |
| 地址： | 550018*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空灭弧室中屏蔽筒与瓷壳的新型连接构造。它包括屏蔽筒(1)和瓷壳(2)；特点是：瓷壳(2)的内侧设有环型凸台(3)，在屏蔽筒(1)的外侧对应于环型凸台(3)上、下方位置分别设有金属环(5)和金属环(4)，或仅在屏蔽筒(1)的外侧对应于环型凸台(3)下方位置设有金属环(4)。本实用新型解决了高膨胀系数的金属屏蔽筒与瓷壳的钎焊固定问题。防止了因屏蔽筒的膨胀造成瓷壳的破裂，以及使屏蔽筒脱落或固定不牢靠产生故障。提高了产品的可靠性，拓宽了屏蔽筒使用材料的选择，更有利于真空灭弧室朝着小型化的方向发展。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 灭弧室中 屏蔽 新型 连接 构造 | ||
【主权项】：
1、一种真空灭弧室中屏蔽筒与瓷壳的新型连接构造，构成包括屏蔽筒(1)和瓷壳(2)；其特征在于：瓷壳(2)的内侧设有环型凸台(3)，在屏蔽筒(1)的外侧对应于环型凸台(3)上、下方位置分别设有金属环(5)和金属环(4)，或仅在屏蔽筒(1)的外侧对应于环型凸台(3)下方位置设有金属环(4)。
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