[实用新型]研磨垫无效
| 申请号： | 200520012440.5 | 申请日： | 2005-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN2841246Y | 公开（公告）日： | 2006-11-29 |
| 发明（设计）人： | 曼伍却尔·拜蓝;柏格斯劳·A·史威克 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种具有一不透明研磨层及一个形成于该研磨层上方的透明窗的研磨垫。该研磨层具有一个直径介于约30至31英寸的圆形研磨表面以及一个能覆盖至少0.50英寸宽、0.75英寸长的区域的窗，该窗定心(centered)在距离该研磨表面中心点7.5英寸处。一凹陷处形成于该窗的底面的暴露区域中。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫，其特征在于，包含：一不透明研磨层，其具有直径介于约30至31英寸的一圆形研磨表面；以及一透明窗，贯穿该研磨层，该窗覆盖至少约0.5英寸长及约0.75英寸宽的一区域，且其中心位于距离该研磨表面中心约7.5英寸处。
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