[实用新型]多容量金属化薄膜电容无效
| 申请号： | 200520017339.9 | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN2791829Y | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 冼翼民 | 申请（专利权）人： | 冼翼民 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G4/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵慧 |
| 地址： | 511430广东省广州市番禺区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种金属化薄膜电容，具体来说是一种多容量金属化薄膜电容。本实用新型通过在两层介质薄膜的蒸镀层上各设置有至少一个窄缝，将蒸镀层分隔成多个独立的金属蒸镀层，同时在两层介质薄膜之间，对应于窄缝的位置设置有一层隔离层，再将两层介质薄膜和隔离层一同叠卷，以每段金属蒸镀层做电极，然后密封在金属壳或者绝缘材料壳中制成，从而实现在同一电容中得到多个电容值。 | ||
| 搜索关键词： | 容量 金属化 薄膜 电容 | ||
【主权项】：
1.一种多容量金属化薄膜电容，其内芯包括两层叠卷的介质薄膜，所述每层介质薄膜的一侧表面上有一层蒸镀层，所述蒸镀层的都在两层介质薄膜的同一侧，每层蒸镀层的侧边留有空白窄边，两层叠卷层的窄边侧位置相反，其特征在于：所述两层蒸镀层上的对应位置设置有至少一条窄缝，两层蒸镀层的个数相对应，两叠卷层之间对应于窄缝的位置还有一层隔离层。
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