[实用新型]远程等离子反应器的并合器无效
| 申请号： | 200520018277.3 | 申请日： | 2005-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN2808933Y | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | 威廉·N·斯特林;罗宾·泰诺 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;H01L21/205;H01L21/31 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 包红健 |
| 地址： | 美国加利福尼亚州CA9*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种远程等离子反应器的并合器，适用于基材沉积室，具有：至少两个远程等离子反应器，每一个远程等离子反应器产生清洁气体流，且具有排出口，供该主要导管清洁气体流流出；歧管，具有多个入口及一个出口，其中该歧管内形成内部通道，与上述入口及该出口连通；主要管线，具有连接至该歧管出口的第一端，以及连接至该基材沉积室的第二端；及多个分支管线，各具有连接至各别远程等离子反应器的排出口的第一端，以及连接至该歧管的一个入口的第二端。 | ||
| 搜索关键词： | 远程 等离子 反应器 并合 | ||
【主权项】：
1.一种远程等离子反应器的并合器，适用于基材沉积室，其特征是具有：至少两个远程等离子反应器，每一个远程等离子反应器产生清洁气体流，且具有排出口，供该主要导管清洁气体流流出；歧管，具有多个入口及一个出口，其中该歧管内形成内部通道，与上述入口及该出口连通；主要管线，具有连接至该歧管出口的第一端，以及连接至该基材沉积室的第二端；及多个分支管线，各具有连接至各别远程等离子反应器的排出口的第一端，以及连接至该歧管的个入口的第二端。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
