[实用新型]真空溅镀中的遮镀辅助设备的结构无效
| 申请号： | 200520065207.3 | 申请日： | 2005-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN2873798Y | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 杨雪娇;覃飞祥;吴政道 | 申请（专利权）人： | 佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528308广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型揭示了一种真空溅镀中的遮镀辅助设备的结构，其包括一遮盖部，其设置于基材的溅镀表面的一侧，且部分遮盖该基材的溅镀表面；且上述遮盖部与上述基材的溅镀表面的垂直距离，等于上述遮盖部遮盖延伸到上述基材的溅镀表面的长度。由于本实用新型采用了设计辅助设备的方式来控制对基材的表面溅镀，克服了业界对遮镀位置不准确、难于控制等难题；且本实用新型结构简单，具有较佳的实用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 中的 辅助 设备 结构 | ||
【主权项】：
1.一种真空溅镀中的遮镀辅助设备的结构，其特征在于包括一部分遮盖基材的溅镀表面之遮盖部，该遮盖部设置于该基材的溅镀表面的一侧，另外，该遮盖部遮盖延伸到上述基材的溅镀表面的长度等于该遮盖部与上述基材的溅镀表面的垂直距离。
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