[实用新型]纳米薄膜成形机无效

专利信息
申请号: 200520075035.8 申请日: 2005-08-31
公开(公告)号: CN2834705Y 公开(公告)日: 2006-11-08
发明(设计)人: 廖恒成;丁历;田琼 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: B05B5/00 分类号: B05B5/00;B05D3/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 陆志斌
地址: 21009*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于制备纳米功能薄膜的纳米薄膜成形机,由真空舱舱体和电机组成,真空舱舱体由座舱和上盖组成,上盖设在座舱上,电机设在座舱内且由设在座舱上的固定法兰固定,在电机的转轴上连接有基底托盘,在上盖上设有进液口且进液口位于基底托盘的上方,在真空舱舱体上设有用于抽真空的真空接头,在真空舱舱体内设有热解用热源和光解用光源,且热源和光源安放位置高于基底托盘;本实用新型具有集薄膜成形、热解或光解及高温相变于一体、有助于提高或保证纳米薄膜质量等优点。
搜索关键词: 纳米 薄膜 成形
【主权项】:
1、一种纳米薄膜成形机,其特征在于由真空舱舱体和电机(8)组成,真空舱舱体由座舱(7)和上盖(3)组成,上盖(3)设在座舱(7)上,电机(8)设在座舱(7)内且由设在座舱(7)上的固定法兰(9)固定,在电机(8)的转轴上连接有基底托盘(11),在上盖(3)上设有进液口且进液口位于基底托盘(11)的上方,在真空舱舱体上设有用于抽真空的真空接头(4),在真空舱舱体内设有热解用热源(14)和光解用光源(15),且热源(14)和光源(15)安放位置高于基底托盘(11)。
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