[实用新型]高位循环补釉施釉装置无效
申请号: | 200520081285.2 | 申请日: | 2005-03-19 |
公开(公告)号: | CN2776976Y | 公开(公告)日: | 2006-05-03 |
发明(设计)人: | 纪桂花;于先进 | 申请(专利权)人: | 山东理工大学 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 淄博科信专利商标代理有限公司 | 代理人: | 吴红 |
地址: | 255049山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型提供一种高位循环补釉施釉装置,其特征在于:包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵,其中施釉箱套装固定在回釉箱的底面上,其侧壁上设置有水平仪,施釉箱内设置有深度尺,其底部设置有高度可调的支座,注釉箱位于施釉箱一侧的上方,其底部经单向阀与施釉箱连通,釉泵的输入端探入回釉箱的底部,其输出端探入注釉箱内。该装置由调整水平调节器配合水平仪观察,使施釉箱处于水平状态,调整支座高度配合深度尺,控制施釉的高度,减少了人为因素,保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致,提高了产品施釉的外观质量,且工艺简单,由原先的多道工序合为一次完成,设备结构简单,易操作,降低了产品成本,减少了次品率,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 高位 循环 补釉施釉 装置 | ||
【主权项】:
1、一种高位循环补釉施釉装置,其特征在于:包括上端敞口的回釉箱(1)、施釉箱(2)、注釉箱(3)和釉泵(4),其中施釉箱(2)套装固定在回釉箱(1)的底面上,其侧壁上设置有水平仪(5),施釉箱(2)内设置有深度尺(6),其底部设置有高度可调的支座(7),注釉箱(3)位于施釉箱(2)一侧的上方,其底部经单向阀(8)与施釉箱(2)连通,釉泵(4)的输入端探入回釉箱(1)的底部,其输出端探入注釉箱(3)内,回釉箱(1)的底部设置有水平调节器(9)。
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