[实用新型]一种多功能多弧等离子沉积装置

摘要

本实用新型涉及一种多功能多弧等离子沉积装置。其技术方案是：在真空工作室[1]的四个侧面装有由各自独立控制的多个电弧蒸发源[3]，在真空工作室[1]的底部设置有活动可拆、装式阴极底板[4]，纳米材料反应收集器[5]位于阴极底板[4]下部，其内设置有气冷及水冷系统。工作脉冲偏压电源[7]分别与阴极底板[4]和真空工作室[1]的炉体阳极连接，工作脉冲偏压电源[7]采用了逆变控制和脉冲偏压电源。真空系统[6]分别与真空工作室[2]和纳米材料反应收集器[5]相通。在真空工作室[1]的炉体侧面设置有氩气进气口[2]和氮气进气口[9]并分别与相应的供气系统相通。本实用新型控制方便稳定，不易产生弧光放电而使工件过热，还具有纳米单层或多层薄膜涂层和纳米粉末制取的功能。

主权项

1、一种多功能多弧等离子沉积装置，其特征在于在真空工作室[1]的四个侧面装有多个电弧蒸发源[3]，每个电弧蒸发源[3]均由各自独立的电弧蒸发系统[8]控制；在真空工作室[1]的底部设置有阴极底板[4]，纳米材料反应收集器[5]位于阴极底板[4]的下部，工件脉冲偏压电源[7]的一端与阴极底板[4]连接、另一端与真空工作室[1]的炉体阳极连接，真空系统[6]分别与真空工作室[2]和纳米材料反应收集器[5]相通；在真空工作室[1]的炉体侧面设置有氩气进气口[2]和氮气进气口[9]，氩气进气口[2]和氮气进气口[9]分别与相应的供气系统相通。