[实用新型]单元多烧咀结构调节窑压、窑温和气氛的装置无效

专利信息
申请号: 200520095030.1 申请日: 2005-01-20
公开(公告)号: CN2788111Y 公开(公告)日: 2006-06-14
发明(设计)人: 丁志坚;丁国友;余春生 申请(专利权)人: 黄冈市华窑中瓷窑炉有限公司
主分类号: F27D7/00 分类号: F27D7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 438000湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种单元多烧咀结构调节窑压、窑温和气氛的装置,它解决了传统窑炉设计烧咀间距较大的带来同一断面温差较大的问题,其特证在于:窑体(1)内辊上、下单侧各设计安装3支烧咀(9),在各支烧咀(9)对应的另一侧窑壁上设有事故处理孔(10)或观火孔(11)。本实用新型为陶瓷生产厂家提供了一种高效、节能、环保、标准的建筑瓷多烧咀辊道窑。
搜索关键词: 单元 多烧咀 结构 调节 温和 气氛 装置
【主权项】:
1、一种单元多烧咀结构调节窑压、窑温和气氛的装置,它由窑体、燃料管、支管、助燃风管、事故处理孔和烧咀组成,其特征在于:窑体(1)内辊上、下单侧各设计安装3支烧咀(9),且辊上、下烧咀(9)交错排列,在各支烧咀(9)对应的另一侧窑壁上设有事故处理孔(10)、观火孔(11)。
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