[实用新型]透明介质膜全息烫印箔无效
申请号: | 200520099800.X | 申请日: | 2005-12-31 |
公开(公告)号: | CN2868687Y | 公开(公告)日: | 2007-02-14 |
发明(设计)人: | 苏武大;王树初;张建军;姚燕明;陈汝钧;曹汉强;郑建武 | 申请(专利权)人: | 华工科技产业股份有限公司 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;B41M5/40 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了透明介质膜全息烫印箔,依次包括载体薄膜基底、分离层、成像层、介质镀层和热熔胶层,介质镀层由3-7层的不同折射率的透明介质膜叠置而成,各层透明介质膜按照折射率的高、低交替放置。由于介质镀层具有一定的反射和透射性,人眼可以清楚地看到成像层上的全息图;又由于介质镀层具有一定的透射性,整个烫印箔是透明的。通过调整各层透明介质膜的折射率,可以使全息烫印箔整体的透射性和反射性达到更好的效果。本实用新型既能够看到全息图,又能够看到包装物上原有的内容。 | ||
搜索关键词: | 透明 介质 全息 烫印箔 | ||
【主权项】:
1、一种透明介质膜全息烫印箔,依次包括载体薄膜基底、分离层、成像层和热熔胶层,其特征在于:在成像层(3)和热熔胶层(5)之间设有介质镀层(6),介质镀层(6)由3-7层的不同折射率的透明介质膜叠置而成,各层透明介质膜按照折射率的高、低交替放置。
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