[实用新型]一种多元素溅射靶材结构无效
| 申请号： | 200520114360.0 | 申请日： | 2005-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN2813638Y | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 杨坚;马平;刘慧舟;屈飞;张华;古宏伟 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院;北京大学 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程凤儒 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种多元素溅射靶材结构，是在金属锆的板材上，均匀地拼接多条条形的金属钇，其中，金属锆的板材可以为圆形，条形金属钇可以为扇条形，且多条扇条形的金属钇的大端位于金属锆的板材的边缘，小端朝向金属锆的板材的中心，多条扇条形的金属钇的中心线通过金属锆的板材的中心，并且围绕着该中心多条扇条形的金属钇均匀分布着。本实用新型的优点是，钇的加入量在靶面上于均匀分布；钇的加入量及分布不随溅射环的大小而改变；靶材使用范围大，不受磁控靶形状和位置的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多元 溅射 结构 | ||
【主权项】：
1、一种多元素溅射靶材结构，其特征在于：在金属锆的板材上，均匀地拚接多条条形金属钇。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院;北京大学，未经北京有色金属研究总院;北京大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200520114360.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
