[实用新型]发光二极体的定位结构改良无效
| 申请号： | 200520118490.1 | 申请日： | 2005-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN2859211Y | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | 李明顺;郭文发 | 申请（专利权）人： | 李洲科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V19/00 | 分类号： | F21V19/00;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周春发 |
| 地址： | 台湾台北市大安*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型发光二极体的定位结构改良主要包含有：固定座及盖体，该固定座一侧面上设有一个以上凹入的开槽，各开槽下并形呈逐渐向外延伸且呈斜面状的支撑部，该支撑部底部并形成与各开槽相通的穿孔，且固定座底部并设有一个以上的定位件，其固定座顶端形成有一定位槽，将发光二极体的接脚分别伸入各穿孔，并使各接脚置入各开槽中，于开槽与定位槽相接处侧弯各接脚形成侧弯部，使发光二极体的灯罩定位于定位槽中，最后将盖体定位于定位槽上方，而将发光二极体确实定位，且该发光二极体可利用固定座底侧的定位件，穿设于电路板预先设定的位置中，达到方便组装且确实组装定位不致歪斜的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 二极体 定位 结构 改良 | ||
【主权项】：
1、一种发光二极体的定位结构改良，其特征在于：该定位结构主要包含有固定座及盖体，其固定座顶端形成有一定位槽，固定座一侧面上设有一个以上凹入的开槽，各开槽下并形呈逐渐向外延伸且呈斜面状的支撑部，该支撑部底部并形成与各开槽相通的穿孔，且固定座底部并设有一个以上的定位件，而盖体则定位于定位槽上方。
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