[实用新型]一种靶装置无效
| 申请号： | 200520118913.X | 申请日： | 2005-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN2873800Y | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 刘阳 | 申请（专利权）人： | 北京实力源科技开发有限责任公司;刘阳 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丛芳;彭晓玲 |
| 地址： | 100070北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种采用磁流体密封装的靶装置，特别是磁控溅射靶和电弧靶，包括：中空靶材及位于靶材内部的磁钢，并且采用磁流体密封装置对靶进行密封。磁流体密封装置采用强制冷却的真空磁流体密封，使磁控溅射靶和电弧靶的静态和动态密封具有高可靠性和高稳定性，同时以内磁场结构保证了定向发射，从而可根据镀膜需要转动内磁场能使发射源按照需要定向，所以显著降低了在靶材预先清洗和引弧期间产生的污染；靶材的两端采用环形外套式结构可以方便地更换从而提高了靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 | ||
【主权项】：
1.一种靶装置，包括中空靶材及位于靶材内部的磁钢，其特征在于：与靶装置相连设置有磁流体密封装置。
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