[实用新型]离子注入机晶圆传送控制系统无效
| 申请号： | 200520142510.9 | 申请日： | 2005-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN2867585Y | 公开（公告）日： | 2007-02-07 |
| 发明（设计）人： | 唐景庭;伍三忠;郭健辉;彭立波;王迪平;孙勇;许波涛;易文杰;姚志丹;孙雪平;谢均宇 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司： | 北京中海智圣知识产权代理有限公司 | 代理人： | 曾永珠 |
| 地址： | 100036北京市海淀区复兴路*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种离子注入机晶圆传送控制系统包括：左晶圆预处理系统、左隔离阀门系统、左晶圆定位及传送系统、晶圆处理机构、右晶圆定位及传送系统、右隔离阀门系统和右晶圆预处理系统，其中左晶圆预处理系统与左隔离阀门系统连接，左隔离阀门系统与左晶圆定位及传送系统连接，左晶圆定位及传送系统与晶圆处理机构连接，右晶圆预处理系统与右晶圆定位及传送系统连接，右晶圆定位及传送系统与右隔离阀门系统连接，右晶圆定位及传送系统与晶圆处理机构连接。该系统能实现对晶圆不同位置的识别、晶圆方向的定位、晶圆的注入角度，并大大提高了晶片传送效率、降低碎片率、降低微粒污染、提高了整机的自动程度。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 机晶圆 传送 控制系统 | ||
【主权项】：
1、一种离子注入机晶圆传送控制系统，其特征在于包括左晶圆预处理系统、左隔离阀门系统、左晶圆定位及传送系统、晶圆处理机构、右晶圆定位及传送系统、右隔离阀门系统和右晶圆预处理系统，其中左晶圆预处理系统与左隔离阀门系统连接，左隔离阀门系统与左晶圆定位及传送系统连接，左晶圆定位及传送系统与晶圆处理机构连接，右晶圆预处理系统与右晶圆定位及传送系统连接，右晶圆定位及传送系统与右隔离阀门系统连接，右晶圆定位及传送系统与晶圆处理机构连接。
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