[发明专利]非水的、非腐蚀性的微电子清洁组合物

摘要

不含氨基酸的、非水的清洁组合物提供了本发明的后端光致抗蚀剂剥离剂和清洁组合物，其基本上对铜及铝无腐蚀性，并且其包括至少一种极性有机溶剂，至少一种羟基化的有机胺，及至少一种具有多个羟基官能团的腐蚀抑制剂化合物，该腐蚀抑制剂化合物为下式的化合物，式中R₁和R₂中的至少一个为OH，如果R₁和R₂中的一个不为OH，它选自H、烷基或烷氧基，m为1或更大的整数，R₃和R₄选自H、烷基或烷氧基，n为0或更大的正整数，p为1或更大的整数；R₅和R₆中的至少一个为OH，如果R₅和R₆中的一个不为OH，它选自H、烷基或烷氧基，q为1或更大的整数；T₁和T₂选自H、烷基、羟基烷基、多羟基烷基、氨基烷基、羰基烷基或酰胺基，或者T₁和T₂可被连接形成选自脂环结构或稠环结构的结构，和任意地一种或多种含羟基的共溶剂，抑制腐蚀的芳基化合物，该芳基化合物含有直接与芳环结合的两个或多个OH、OR₆和/或SO₂R₆R₇基团，式中R₆、R₇和R₈分别独立地选自烷基和芳基，金属络合剂，不同的抑制金属腐蚀的化合物，及表面活性剂。

主权项

1.一种不含氨基酸的、非水的清洁组合物，其用于从微电子衬底上清洁光致抗蚀剂和残余物，所述清洁组合物包含：一种或多种极性有机溶剂，一种或多种有机羟基化的胺，及抑制腐蚀量的一种或多种具有多个羟基官能团的腐蚀抑制剂化合物，其为下式的化合物： T1-[(CR1R2)m-(CR3R4)n]p-(CR5R6)q-T2 式中R1和R2中的至少一个为OH，如果R1和R2中的一个不为OH，则它选自H、烷基和烷氧基，m为1或更大的整数，R3和R4选自H、烷基和烷氧基，n为0或更大的正整数，p为1或更大的整数；R5和R6中的至少一个为OH，如果R5和R6中的一个不为OH，则它选自H、烷基和烷氧基，q为1或更大的整数；T1和T2选自H、烷基、羟基烷基、多羟基烷基、氨基烷基、羰基烷基和酰胺基，或者T1和T2可被连接形成选自脂环结构或稠环结构的结构。