[发明专利]太阳电池及其制造方法有效
申请号: | 200580000804.0 | 申请日: | 2005-01-12 |
公开(公告)号: | CN1842920A | 公开(公告)日: | 2006-10-04 |
发明(设计)人: | 高桥康仁;小野之良 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L31/0336 | 分类号: | H01L31/0336 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种太阳电池,其包括:基板(21),在基板(21)上形成的导电膜(22),形成于导电膜(22)上且具有包含Ib族元素、IIIb族元素及VIb族元素的p型半导体晶体的化合物半导体层(23),形成于化合物半导体层(23)上且具有开口(29)的n型窗层(24),在n型窗层(24)上以及在n型窗层(24)的开口之下的化合物半导体层(23)上形成的n型透明导电膜。其中,化合物半导体层(23)具有高电阻部(23B),高电阻部(23B)在与导电膜(22)相反一侧的表面附近的部分区域形成,含有掺杂在p型半导体晶体中的n型杂质;且高电阻部(23B)配置在n型窗层(24)的开口(29)之下。 | ||
搜索关键词: | 太阳电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种太阳电池,其包括:基板;导电膜,其形成于所述基板上;化合物半导体层,其形成于所述导电膜上,并具有包含Ib族元素、IIIb族元素及VIb族元素的p型半导体晶体;n型窗层,其形成于所述化合物半导体层上,且具有开口;以及n型透明导电膜,其形成于所述n型窗层之上、以及形成于所述n型窗层的所述开口之下的化合物半导体层上;所述太阳电池的特征在于:所述化合物半导体层具有高电阻部,该高电阻部在所述化合物半导体层的与导电膜相反一侧的表面附近的部分区域形成,且含有掺杂在所述p型半导体晶体中的n型杂质;所述高电阻部配置在所述n型窗层的所述开口之下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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