[发明专利]导电性半导体衬底上的电极焊盘有效
申请号: | 200580001196.5 | 申请日: | 2005-05-18 |
公开(公告)号: | CN1860598A | 公开(公告)日: | 2006-11-08 |
发明(设计)人: | 赤毛勇一;深野秀树;山中孝之;斋藤正 | 申请(专利权)人: | 日本电信电话株式会社 |
主分类号: | H01L21/3205 | 分类号: | H01L21/3205;H01L21/60;H01L27/14;H01S5/042 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 李峥;杨光军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种减小电极焊盘部分的电容,同时对于实用性的电极焊盘尺寸能够进行特性阻抗的控制的半导体衬底上的电极焊盘。在n-InP衬底1上,形成将n-InP包层2、i层3、p-InP包层与p型接触层4叠层而成的台面条纹型的光波导,在n-InP衬底1上形成在光波导的附近具有台面状淀积部8c的绝缘性材料膜8,将向光波导供给电信号的电极金属11a和布线金属11b、11c分别配置在光波导和绝缘性材料膜8之上,同时将电极焊盘10配置在台面状淀积部8c的上面,使得n-InP衬底1与电极焊盘10具有规定的间隔t1 (大约17~29μm)。 | ||
搜索关键词: | 导电性 半导体 衬底 电极 | ||
【主权项】:
1.一种导电性半导体衬底上的电极焊盘,其特征在于,具备:导电性衬底;在该导电性衬底上形成的绝缘性材料膜;在该绝缘性材料膜上形成的电极焊盘;和在上述绝缘性材料膜上形成的,与上述电极焊盘连接的,具有与上述电极焊盘不同的宽度的布线;上述电极焊盘的尺寸,为与和外部设备间的电连接部位大体相同的尺寸或其以上,上述绝缘性材料膜的至少形成有上述电极焊盘的第1区域的厚度,是与上述绝缘性材料膜的形成有上述布线的至少一部分的第2区域、且是上述第1区域之外的第2区域的第2厚度不同的厚度,并使得上述电极焊盘的特性阻抗与连接在上述电极焊盘上的外部设备的特性阻抗大体相匹配。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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