[发明专利]抛光垫的基垫和包括该基垫的多层垫有效
| 申请号： | 200580001483.6 | 申请日： | 2005-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN1905993A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 宋侑真;李宙悦;金成民;金载皙;李炫雨 | 申请（专利权）人： | 株式会社SKC |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张宜红 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种在化学机械抛光即平面化处理过程中与抛光浆液结合使用的抛光垫的基垫，还揭示了使用该基垫的多层垫。由于根据本发明的基垫不含小孔，可以防止抛光浆液和水的渗透，以避免物理性质的不均匀，从而可以延长抛光垫的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 包括 多层 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光垫的基垫，该基垫不含小孔，其肖氏硬度D为10-100，压缩性为1-10％。
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