[发明专利]用于测量工艺组件是否满足指定公差的方法和装置无效
| 申请号： | 200580001701.6 | 申请日： | 2005-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN1906457A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·T·芬克 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G01B3/50 | 分类号： | G01B3/50 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种通过/不通过式量具和方法，用于检验用在等离子体加工工具的等离子体室内的工艺组件是否已经累积过多的磨损或沉积物。所述量具包括用于检验工艺组件的尺寸是否违反指定的尺寸公差的部件，所述违反表示工艺组件已经累积过多的磨损或沉积物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 工艺 组件 是否 满足 指定 公差 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种通过/不通过式量具，用于检验用在等离子体加工工具的等离子室内的工艺组件是否已经累积了过多的磨损或沉积物，包括：主体，被构造成由所述通过/不通过式量具的使用者握持；检验特征，被构造成检验所述工艺组件的特征尺寸是否违反指定的尺寸公差，其中，违反所述指定公差表示所述工艺组件的过度磨损或者过多的材料沉积在所述工艺组件上；标识特征，被构造成使所述通过/不通过式量具与所述工艺组件和所述工艺组件将要暴露到其中的工艺中的至少一个唯一相关联。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580001701.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：含石灰和聚合物的可凝固混合物
- 下一篇：半导体发光器件
