[发明专利]具有一个或多个光栅场的光栅图像有效
| 申请号： | 200580002326.7 | 申请日： | 2005-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN1938164A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 马里乌斯·迪希特尔 | 申请（专利权）人： | 德国捷德有限公司 |
| 主分类号： | B42D15/00 | 分类号： | B42D15/00 |
| 代理公司： | 武汉开元专利代理有限责任公司 | 代理人： | 樊戎 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有一个或多个光栅场的光栅图像，各个所述光栅场包括具有多条光栅线的电磁辐射影响光栅图案，所述光栅线的特性由方位、曲率、间隔和轮廓参数确定。根据本发明，在所述光栅图像中，能够用肉眼单独地看到的光栅场(30)包括具有这样的光栅线(32)的电磁辐射影响光栅图案，即，光栅线的参数方位、曲率、间隔(34)和轮廓中的至少一个通过所述光栅场的表面变化。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 一个 光栅 图像 | ||
【主权项】：
1.一种具有一个或多个光栅场的光栅图像，各个所述光栅场包括具有多条光栅线的电磁辐射影响光栅图案，所述光栅线的特性由方位、曲率、间隔和轮廓参数确定，其特征在于，在所述光栅图像中，能够用肉眼单独地看到的光栅场包括具有这样的光栅线的电磁辐射影响光栅图案，即，所述光栅线的方位、曲率、间隔和轮廓参数中的至少一个通过所述光栅场的表面变化。
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