[发明专利]制造磁光装置的方法无效
| 申请号： | 200580002674.4 | 申请日： | 2005-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1910678A | 公开（公告）日： | 2007-02-07 |
| 发明（设计）人： | R·J·M·武勒斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B11/105 | 分类号： | G11B11/105 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 龚海军;梁永 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 制造磁光装置的方法，其中至少一个线圈(3)被嵌入到氧化物层(2)中，其中给氧化物层(2)提供至少一个开口(4)。其中，利用所述线圈(3)的至少一匝(6)的倾斜侧壁(6)，所述开口(4)被选择性地蚀刻在所述氧化物层(2)中。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.制造磁光装置的方法，包含以下步骤：在氧化物层(2)中嵌入至少一个线圈(3)，给氧化物层(2)提供至少一个开口(4)，利用所述线圈(3)的至少一匝(5)的倾斜侧壁(6)，在所述氧化物层(2)中选择性地蚀刻所述开口(4)。
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