[发明专利]跳过焦点的聚焦控制方案无效

专利信息
申请号: 200580002747.X 申请日: 2005-01-10
公开(公告)号: CN1910666A 公开(公告)日: 2007-02-07
发明(设计)人: F·兹杰普;M·B·范德马克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/085 分类号: G11B7/085
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;陈景峻
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种控制将辐射束会聚到记录载体的第一空间层面上的聚焦控制设备和方法,其中聚焦控制环被锁定到从位于距所述第一空间层面一个预定距离的第二空间电平获得的反射信号上,然后开启聚焦控制环以朝向第二空间层面将物镜装置移动一个与所述预定距离相关的预定量。该逐步过程扩大了机械过冲的容限并因此减小了撞击到盘上的风险。另外,如果出现了较薄的透明覆盖层,则不会检测到不清楚的聚焦误差信号,并且改进了初始聚焦的稳健性。
搜索关键词: 跳过 焦点 聚焦 控制 方案
【主权项】:
1、用于控制物镜装置(2)以将辐射束会聚在记录载体(1)的第一空间层面上的聚焦控制设备,所述设备包括:(a)聚焦控制环,具有用于检测从所述辐射束在所述记录载体(1)处的反射获得的信号的检测装置(6),和用于响应所述检测的信号调节所述物镜装置(2)的位置的致动器装置(11);和(b)聚焦控制装置(7),用于控制所述致动器装置(11)朝向所述记录载体(1)移动所述物镜装置(2),将聚焦锁定至从所述记录载体(1)的第二空间层面产生的反射信号,开启所述聚焦控制环,和控制所述致动器装置(11)移动所述物镜装置(2)一个预定的量,所述预定的量与所述第一和第二空间层面之间的距离相关。
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