[发明专利]曝光装置和用于投影透镜的测量装置有效
| 申请号： | 200580002853.8 | 申请日： | 2005-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN1938646A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | A·埃尔曼;U·韦格曼;R·霍赫;J·马尔曼;K·H·舒斯特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 吴鹏;马江立 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括为浸渍操作构造的投影透镜(20)。为此，将浸渍液(34)引入位于投影透镜(20)的图像侧的末级透镜(L5；54)与待曝光的感光层(26)之间的浸渍空间(44)内。为了减小由在浸渍液(34)内出现的温度梯度导致的折射率的波动，该投影曝光装置(10)包括传热元件(50；501；502；503；504)，通过该传热元件可以指定方式加热或冷却浸渍液(34)的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用于 投影 透镜 测量 | ||
【主权项】：
1.一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括：-用于产生投影光(13)的照射系统(12)，-用于使掩模(24)在感光层(26)上成像的投影透镜(20)，所述投影透镜(20)包括多个光学元件(L1至L5；54)，以及-浸渍空间(44)，该浸渍空间--在投影透镜(20)的图像侧的末级光学元件(L5；54)与感光层(26)之间形成，以及--可充有浸渍液(34)，其特征在于，具有用于选择性地改变浸渍空间(44)的区域内的温度的传热元件(50；501；502；503；504)。
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