[发明专利]光罩/掩模系统的自适应实时控制有效
申请号: | 200580003080.5 | 申请日: | 2005-01-19 |
公开(公告)号: | CN1910517A | 公开(公告)日: | 2007-02-07 |
发明(设计)人: | 萨恩吉夫·考沙尔;帕迪普·帕恩戴伊;杉岛贤次 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王怡 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明给出了一种包括多变量控制器(260)的自适应实时热处理系统。通常,方法(1600)包括创建热处理系统的动态模型(1630);将光罩/掩模曲率并入到动态模型中;将扩散-放大模型耦合到动态热模型中;创建多变量控制器;将标称设置点参数化到智能设置点的向量中(1650);创建工艺敏感性矩阵;利用高效优化方法和工艺数据创建智能设置点;并建立工艺方案,该工艺方案在运行期间选择了适当的模型和设置点。 | ||
搜索关键词: | 系统 自适应 实时 控制 | ||
【主权项】:
1.一种操作热处理系统的方法,包括:将光罩/掩模放置在包括多个分段的加热装置上;创建所述系统的动态热模型;利用所述系统的动态热模型建立多个智能设置点,其中对于所述加热装置的每个分段创建至少一个智能设置点;以及利用所述至少一个智能设置点控制每个分段的实际温度,从而在所述光罩/掩模上建立受控的温度分布特性。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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