[发明专利]用于制造能够激光蚀刻的印刷基底的方法

摘要

一种用于制造可激光蚀刻印刷基底的方法，包括以下步骤：在圆筒形支撑体或者片状支撑体上形成光敏树脂组合物层；以及对所形成的光敏树脂组合物层施加光，以形成厚度大于等于50微米且小于等于50毫米的固化光敏树脂层，其中施加到光敏树脂组合物层的光包括波长大于等于200纳米且小于等于450纳米的光，而当利用紫外计(由Ohku Seisakusho制造，商标为“UV－M02”)和滤波器(由Ohku Seisakusho制造，商标为“UV－35－APR滤波器”)测量时，光敏树脂组合物层的表面上的光照度大于等于20mW/cm²且小于等于2W/cm²，当利用所述紫外计和滤波器(由Ohku Seisakusho制造，商标为“UV－25滤波器”)测量时，光敏树脂组合物层的表面上的光照度大于等于3mW/cm²且小于等于2W/cm²。

主权项

1.一种用于制造可激光蚀刻印刷基底的方法，包括以下步骤：在圆筒形支撑体或者片状支撑体上形成光敏树脂组合物层；以及对所述形成的光敏树脂组合物层施加光，以形成厚度大于等于50微米且小于等于50毫米的固化光敏树脂层，其中施加到所述光敏树脂组合物层的所述光包括波长大于等于200纳米且小于等于450纳米的光，并且，当利用紫外计(由ORC制造有限公司制造，商标为“UV-M02”)和滤波器(由ORC制造有限公司制造，商标为“UV-35-APR滤波器”)测量时，在所述光敏树脂组合物层的表面上的光照度大于等于20mW/cm2且小于等于2W/cm2，而当利用所述紫外计和滤波器(由ORC制造有限公司制造，商标为“UV-25滤波器”)测量时，在所述光敏树脂组合物层的表面上的光照度大于等于3mW/cm2且小于等于2W/cm2。