[发明专利]用于旋涂的转台装置无效

专利信息
申请号: 200580003554.6 申请日: 2005-09-08
公开(公告)号: CN1914676A 公开(公告)日: 2007-02-14
发明(设计)人: 姜太植;李成根;洪瑛晙 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26
代理公司: 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人: 朱梅;徐志明
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种由于旋转基片产生的离心力而使用表面涂料对在其中心部形成有中心孔的基片进行旋涂的转台装置。该转台装置包括:具有平面的支撑单元,其具有向基片提供真空力的至少一个真空孔以在水平表面上固定地支撑基片;设置于将要插入固定地支撑在支撑单元表面上的基片中心孔中的支撑单元中心处的弹性体,其通过由外力产生的弹性变形而封闭中心孔;以及设置于弹性体上并挤压弹性体使其弹性变形的挤压构件。由于不需要额外的用于在旋涂的过程中封闭基片中心孔的元件,所以该装置简单,涂覆过程简单,而且防止了基片的中心部在旋涂后受到污染。
搜索关键词: 用于 转台 装置
【主权项】:
1、一种由于旋转基片产生的离心力而使用表面涂料对在其中心部形成有中心孔的基片进行旋涂的转台装置,该转台装置包括:具有平面的支撑单元,其具有向基片提供真空力的至少一个真空孔以在水平表面上固定地支撑基片;设置于将要插入固定地支撑在支撑单元表面上的基片中心孔中的支撑单元中心处的弹性体,其通过由外力产生的弹性变形而封闭中心孔;以及设置于弹性体上并挤压弹性体使其弹性变形的挤压构件。
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