[发明专利]具有作用区的半导体结构无效
申请号: | 200580003601.7 | 申请日: | 2005-01-26 |
公开(公告)号: | CN1914744A | 公开(公告)日: | 2007-02-14 |
发明(设计)人: | W·本施 | 申请(专利权)人: | RWE太空太阳能有限责任公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L27/15;H01L31/0304 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曹若;刘华联 |
地址: | 德国海*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种具有作用区的半导体结构,如发光二极管或者光电二极管(10、16、24、26、36、46、54、68、74、80),它包括一个具有至少两个作用区(AZ1-AZn)的基底(SUB),其中每个作用区发出或吸收不同波长的光线。为了实现多波长二极管,第一(下部)作用区(AZ1)在基底(SUB)的表面上生长,其中一个或者多个其它作用区(AZ1-AZn)上下依次取向附生地生长,并且其中作用区(AZ1-AZn)通过作为低欧姆电阻的隧道二极管(TD1-TDn)从下部作用区(AZ1)直到上部作用区(AZn)进行串联。 | ||
搜索关键词: | 具有 作用 半导体 结构 | ||
【主权项】:
1.具有作用区的半导体结构,如发光二极管或者光电二极管(10、16、24、26、36、46、54、68、74、80),它包括具有至少两个作用区(AZ1-AZn)的基底(SUB),其中每个作用区发出或吸收不同波长的辐射,其中第一(下部)作用区(AZ1)在基底(SUB)的表面上生长,其中至少另一个(上部)作用区(AZ1-AZn)取向附生地生长,并且作用区(AZ1-AZn)通过至少一个作为低欧姆电阻的分离层(TD1-TDn)从下部的作用区(AZ1)直到上部作用区(AZn)进行串联,其中分离层(TD1-TDn)是隔离二极管或者隧道二极管形式的反极性np结或者pn结,其特征在于:半导体结构(10、16、24、26、36、46、54、68、74、80)是发出或者吸收确定多的光波长的多波长二极管,在下部作用区(AZ1)和上部作用区(AZn)之间取向附生地生长一个或者多个另外的作用区(AZn),最下部的作用区(AZ1)具有微小的能带间隙,其中接下去的作用区(AZ2-AZn)分别具有比前面的作用区更高的能带间隙,并且用于生长或者取向附生隔离二极管或者隧道二极管(TD)的半导体材料或者具有一个间接的带结,或者具有分别略高于其下使用的半导体材料的能带间隙。
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