[发明专利]光学滤波器和光学滤波器的制造方法有效
申请号: | 200580004454.5 | 申请日: | 2005-06-23 |
公开(公告)号: | CN1918489A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 龟田英一 | 申请(专利权)人: | 株式会社大真空 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;G02B5/26;C23C14/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的光学滤波器的制造方法使用研磨机对基体的两个主面进行研磨加工。如果研磨加工基体的两个主面,则使用蒸镀法在基体的一个主面上蒸镀形成第一侧膜。另外,在膜的蒸镀形成时,对一个主面施加应力,与一个主面相对的端边向其他主面侧的方向形变。在第一膜形成步骤之后,根据因在一个主面上形成第一侧膜而造成的形变量,来设置向其他主面蒸镀应力修正膜的蒸镀量,将应力修正膜的厚度设置为与单层膜的厚度相当。另外,使用蒸镀法向其他主面蒸镀形成应力修正膜,修正因向一个主面形成第一侧膜造成的形变,来制造光学滤波器。 | ||
搜索关键词: | 光学 滤波器 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学滤波器,在贯通基体的两个主面的方向上使光透过,其特征在于:在上述基体的上述其他主面上,形成修正因在上述一个主面上形成第一侧膜而产生的对上述基体的应力的应力修正膜,使上述基体弯曲,在上述基体的弯曲后,除去上述应力修正膜,同时在上述一个主面上形成第一侧膜。
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