[发明专利]光学滤波器和光学滤波器的制造方法有效

专利信息
申请号: 200580004454.5 申请日: 2005-06-23
公开(公告)号: CN1918489A 公开(公告)日: 2007-02-21
发明(设计)人: 龟田英一 申请(专利权)人: 株式会社大真空
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B5/26;C23C14/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的光学滤波器的制造方法使用研磨机对基体的两个主面进行研磨加工。如果研磨加工基体的两个主面,则使用蒸镀法在基体的一个主面上蒸镀形成第一侧膜。另外,在膜的蒸镀形成时,对一个主面施加应力,与一个主面相对的端边向其他主面侧的方向形变。在第一膜形成步骤之后,根据因在一个主面上形成第一侧膜而造成的形变量,来设置向其他主面蒸镀应力修正膜的蒸镀量,将应力修正膜的厚度设置为与单层膜的厚度相当。另外,使用蒸镀法向其他主面蒸镀形成应力修正膜,修正因向一个主面形成第一侧膜造成的形变,来制造光学滤波器。
搜索关键词: 光学 滤波器 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学滤波器,在贯通基体的两个主面的方向上使光透过,其特征在于:在上述基体的上述其他主面上,形成修正因在上述一个主面上形成第一侧膜而产生的对上述基体的应力的应力修正膜,使上述基体弯曲,在上述基体的弯曲后,除去上述应力修正膜,同时在上述一个主面上形成第一侧膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社大真空,未经株式会社大真空许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580004454.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top