[发明专利]离子型UV-A防晒剂及含有该防晒剂的组合物无效

专利信息
申请号: 200580004920.X 申请日: 2005-02-11
公开(公告)号: CN1918126A 公开(公告)日: 2007-02-21
发明(设计)人: 凯特加·伯格-舒尔茨;乌尔里克·休伯;丹尼尔·斯普伦格 申请(专利权)人: DSMIP资产公司
主分类号: C07D213/57 分类号: C07D213/57;C07F9/08;A61K31/4422
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴;巫肖南
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一类新的1,4-二氢吡啶衍生物、含有该衍生物的化妆或皮肤病学用的新防晒剂组合物,以及这类衍生物对人类皮肤及/或头发抗紫外线照射,尤其抗日光照射进行光辐照保护的用途。
搜索关键词: 离子 uv 防晒 含有 组合
【主权项】:
1.通式I所示的化合物式中,R1和R2为相同或不同的吸电荷基团,或者R1和R2之一为氢,而另一个为吸电荷基团,R3、R4、R5和R6独立地选自氢原子、C1-C10烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基、C3-C10环烷基或者C6-C10芳基,上述各基团为未取代的或者任选被1至3个取代基所取代,所述取代基选自C1-C6烷基、卤素、羟基和C1-C6烷氧基,或者R3和R5及/或R4和R6同其所连的碳原子一起构成5元或6元环,该5元或6元环任选被1至4个取代基所取代,所述取代基选自C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基、羟基或卤素,X为含1至20个碳原子和任选1至10个杂原子,并含有至少一个荷正电或荷负电的基团的烃基,以及Y为抗衡离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于DSMIP资产公司,未经DSMIP资产公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580004920.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top