[发明专利]离子型UV-A防晒剂及含有该防晒剂的组合物无效
申请号: | 200580004920.X | 申请日: | 2005-02-11 |
公开(公告)号: | CN1918126A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 凯特加·伯格-舒尔茨;乌尔里克·休伯;丹尼尔·斯普伦格 | 申请(专利权)人: | DSMIP资产公司 |
主分类号: | C07D213/57 | 分类号: | C07D213/57;C07F9/08;A61K31/4422 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 封新琴;巫肖南 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一类新的1,4-二氢吡啶衍生物、含有该衍生物的化妆或皮肤病学用的新防晒剂组合物,以及这类衍生物对人类皮肤及/或头发抗紫外线照射,尤其抗日光照射进行光辐照保护的用途。 | ||
搜索关键词: | 离子 uv 防晒 含有 组合 | ||
【主权项】:
1.通式I所示的化合物
式中,R1和R2为相同或不同的吸电荷基团,或者R1和R2之一为氢,而另一个为吸电荷基团,R3、R4、R5和R6独立地选自氢原子、C1-C10烷基、C2-C10链烯基、C2-C10炔基、C3-C10环烷基或者C6-C10芳基,上述各基团为未取代的或者任选被1至3个取代基所取代,所述取代基选自C1-C6烷基、卤素、羟基和C1-C6烷氧基,或者R3和R5及/或R4和R6同其所连的碳原子一起构成5元或6元环,该5元或6元环任选被1至4个取代基所取代,所述取代基选自C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基、羟基或卤素,X为含1至20个碳原子和任选1至10个杂原子,并含有至少一个荷正电或荷负电的基团的烃基,以及Y为抗衡离子。
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