[发明专利]包含氟化合物的气流的处理方法和装置有效
| 申请号： | 200580005015.6 | 申请日： | 2005-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN1917932A | 公开（公告）日： | 2007-02-21 |
| 发明（设计）人： | J·R·史密斯;A·J·西利 | 申请（专利权）人： | 英国氧气集团有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/70 | 分类号： | B01D53/70;B01D53/68;B01J19/08;B01J19/12;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 廖凌玲 |
| 地址： | 英国英格*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 一种处理含全氟化合物气流的方法，例如从半导体制造加工设备排放的流体流的处理方法。在一个实施例中，等离子焰炬用于从可电离气体，如氮气或氩气，产生等离子体。等离子注入到反应腔，其容纳有水蒸气流和排放的流体流。可电离的流体与全氟化合物反应使水蒸气分解为加热的H+和OH－离子。处理含全氟化合物的气流的装置包括从源气体产生等离子的机构，注入等离子到反应腔的机构，传输气体流到反应腔的机构，和传输H+和OH－离子源到等离子流的机构。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 氟化 气流 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种处理含氟化合物气流的方法，所述方法包括：从等离子源气体产生等离子流，通过孔注入产生的等离子流到腔中，传输H+和/或OH-离子源到等离子流，撞击等离子流形成加热的OH-和/或H+离子，并传输气体流到加热的离子。
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