[发明专利]扩散阻挡层和扩散阻挡层的制造方法无效

专利信息
申请号: 200580005287.6 申请日: 2005-02-16
公开(公告)号: CN1977404A 公开(公告)日: 2007-06-06
发明(设计)人: M·哈拉兹奥尔松;H·特兰夸克;A·加利相 申请(专利权)人: OC欧瑞康巴尔斯公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/52
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王庆海;王忠忠
地址: 列支敦士*** 国省代码: 列支敦士登;LI
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摘要: 发明涉及一种用于显示装置的扩散阻挡系统,其包括具有至少两层电介质材料的层系统,其中该层系统中的至少两个相邻层包括相同的材料。在单一等离子体沉积系统的处理腔中制造这样的扩散阻挡系统的相应方法,包括的步骤有引入待处理的基板到所述处理腔中,以受控制的方式在沉积过程中分离地变化处理腔中至少一个的工艺参数但不是完全中断这样的工艺参数,从而每个变化在一层中带来了不同的特性,并且最后将所述基板从所述处理腔中取出。
搜索关键词: 扩散 阻挡 制造 方法
【主权项】:
1、一种用于显示装置的扩散阻挡系统,其包括具有至少两层电介质材料的层系统,其中该层系统中的至少两个相邻层包括相同的材料。
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