[发明专利]用于产生放射性同位素的靶装置无效
| 申请号： | 200580005296.5 | 申请日： | 2005-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN1922695A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | J－C·阿米莉亚;M·吉约特 | 申请（专利权）人： | 离子束应用股份有限公司 |
| 主分类号： | G21G1/00 | 分类号： | G21G1/00;G21K5/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 赵培训 |
| 地址： | 比利时卢万*** | 国省代码： | 比利时;BE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种辐照单元，用于通过粒子束辐照靶材料来产生感兴趣的放射性同位素，包括形成空腔(7)的金属型芯(2)，该空腔(7)被设计用来容纳靶材料并被辐照窗口封闭，其特征在于，所述金属型芯(2)包括至少两个不同材料的分离的金属部件(8，9)，所述至少两个不同材料的分离的金属部件(8，9)至少由包括所述空腔(7)的第一部件(8)和第二部件(9)构成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 放射性同位素 装置 | ||
【主权项】：
1.一种辐照单元，用于通过粒子束辐照靶材料来产生使人感兴趣的放射性同位素，包括形成空腔(7)的金属型芯(2)，该空腔(7)被设计用来容纳靶材料并被辐照窗口封闭，其特征在于，所述金属型芯(2)包括至少两个不同材料的分离的金属部件(8，9)，所述至少两个不同材料的分离的金属部件(8，9)至少由包括所述空腔(7)的第一部件(8)和第二部件(9)构成。
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